Year: 2020
Location: Seoul, South Korea
Type: Making, Academic project(Individual)
Prof.: Young-suk Kim, Heechan Park(Studio heech)
Etc.: Apply to Seoul Biennale of Architecture and Urbanism 2021 with studio
보관이 어려운 기존 마스크의 문제점을 개선하고자 했다. 주름 형태를 통해 필 터면은 외부와의 접촉을 최소화할 수 있고, 단위 면적당 필터 면적이 늘어나기 때문에 호흡 성능을 개선할 수 있다. 또한 사용자의 필요에 따라 눈과 얼굴 전체를 보호할 수 있게 확장 가능하다. 주름선에는 LED light가 있어 체온과 접종 여부를 외부로 표출할 수 있으며, 사용하지 않을 때는 무선 케이스에 넣어 마스크에 남아 있는 바이러스를 제거할 수 있다.
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